Novità Fotografiche 2025

Nikon ha appena annunciato la nuova stazione Litho Booster 1000, capace di allineare con assoluta precisione più strati sovrapposti di chip (come nei sensori stacked ad esempio e nelle memorie 3D dei microprocessori).

Tokyo - Nikon Corporation ha annunciato lo sviluppo di Litho Booster 1000, il suo ultimo modello di stazione di allineamento, progettato per consentire un'eccezionale precisione di sovrapposizione nella produzione di semiconduttori. Litho Booster 1000 fornisce misurazioni di campionamento ad alta densità su ogni wafer e invia dati di correzione precisi direttamente al sistema litografico prima dell'esposizione, migliorando il controllo del processo e garantendo una maggiore resa produttiva. Nikon prevede di lanciare il sistema nella seconda metà del 2026.

Progettato per la massima flessibilità, il Litho Booster 1000 supporta i sistemi di litografia a semiconduttore sia Nikon che di altri fornitori di apparecchiature per litografia. Nikon fornisce tecnologia di stazioni di allineamento per soddisfare le esigenze di sovrapposizione dei clienti dal 2018; il nuovo modello rappresenta un importante passo avanti in termini di capacità e prestazioni.

Con la rapida adozione di strutture di dispositivi 3D in molti segmenti del mercato dei semiconduttori, come sensori di immagine CMOS, dispositivi logici, flash NAND e presto anche DRAM, il settore si trova ad affrontare crescenti sfide di overlay causate dalla deformazione e dal disallineamento dei wafer durante l'elaborazione multistrato e il wafer-to-wafer bonding. Queste fasi richiedono misurazioni dei wafer più precise e a densità più elevata per mantenere tolleranze di overlay ristrette su stack sempre più complessi.

Il Litho Booster 1000 affronta queste sfide con una maggiore accuratezza di misura assoluta e multi-punto, che si traduce in una migliore qualità e resa del dispositivo, mantenendo al contempo un'elevata produttività durante l'intero processo produttivo. Lo sviluppo del sistema è stato in parte supportato dai risultati di ricerca di un progetto commissionato dall'Organizzazione giapponese per lo sviluppo delle nuove energie e delle tecnologie industriali (NEDO).

Aggiornamento firmware minore per la Z5 II :

Modifiche rispetto alla versione firmware "C" da 1.02 a 1.10

QUI

Aggiornamento non sostanziale di NX Studio (qui) versione 10.1.1

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