Come certo già sapete molto bene, il secondo settore di attività di Nikon, dopo la fotografia è la produzione di macchine per la stampa di microprocessori e chip in generale (stepper ad immersione).
Per lungo tempo Nikon è stata prima attrice in questo campo fino a quando ASML (Philips) non ha proposto macchinari a lunghezze d'onda ultracorte capaci di operare su piste estremamente dense : sono le macchine che usa TMSC per produrre i processori più sofisticati al mondo per Intel, AMD, NVDIA, Apple.
Questo perché gli investimenti in questo settore sono elevatissimi e anche per motivi strategici, il Dipartimento di Stato USA ha imposto al Giappone di porre un veto a Nikon per la vendita di macchinari di questo tipo a società cinesi.
Il risultato è stato un calo di vendite, di prodotto, di margini, le solite ristrutturazioni, spostamento di manodopera, chiusura di linee, con un prodotto annuale di poche unità consegnate (parliamo di decine di pezzi, anche se un pezzo costa 5-10 milioni di dollari).
E' un argomento di cui su Nikonland abbiamo già parlato spesso.
Il nuovo Presidente Nikon già dal suo insediamento lo scorso aprile pare voglia porre rimedio alla situazione con una strategia più aggressiva che metta Nikon come credibile produttore alternativo ad ASML e al contempo liberare Nikon dalla dipendenza di Intel come unico grande cliente (considerando che Intel è in crisi e di fatto sta usando TSMC per le produzioni più sofisticate).
Cosa è cambiatoNikon ha annunciato una strategia aggressiva per riconquistare quote di mercato nella microlitografia ArF (sia dry che immersion):
Prezzo come arma principale: Nikon offrirà le macchine ArF 20-30% più economiche rispetto ad ASML, grazie all’alto tasso di produzione interna dei componenti (lenti, moduli chiave, ecc.). Ohmura ha dichiarato che anche con prezzi più bassi rimangono ampi margini di profitto.
Nuova piattaforma immersion ArF compatibile con l’ecosistema ASML (maschere e processi) prevista per l’anno fiscale 2028.
Lancio imminente del nuovo sistema dry ArF NSR-S333F già entro l’anno fiscale 2026 (con throughput >300 wafer/ora e overlay <4 nm).
Obiettivo: ridurre la dipendenza storica da Intel e conquistare nuovi clienti tra i grandi produttori USA e asiatici (negoziati già “vicini all’ordine”).
ContestoDopo anni di forti perdite e vendite quasi ferme di sistemi ArF, il nuovo CEO ha reso la microlitografia uno dei pilastri del nuovo piano industriale a medio termine (2026-2031). Nikon vuole passare da fornitore di nicchia a seconda fonte credibile per i clienti che non vogliono dipendere solo da ASML.
Questa è una vera inversione di rotta rispetto alla strategia più difensiva degli ultimi anni.
Contesto e cambio di leadershipDa aprile 2026, Yasuhiro Ohmura (ingegnere ottico con esperienza diretta sulle lenti di proiezione per litografia) è diventato Presidente e CEO di Nikon.
Questa nomina ha segnato una vera inversione di rotta: la litografia semiconduttore è tornata al centro del nuovo piano industriale quinquennale (2026-2031), con l’obiettivo di far crescere del 55% i ricavi della divisione Precision Equipment.Dopo anni di vendite bassissime (quasi zero macchine ArF immersion nel 2025 e vendite minime di dry ArF), Nikon ha deciso di passare da una posizione difensiva a una strategia aggressiva di riconquista del mercato ArF.Elementi chiave della nuova strategia
Prezzo come arma principale
Nikon sfrutta il suo alto grado di integrazione verticale (produce in casa molte componenti critiche: lenti, stadi, moduli ottici). Questo le permette di offrire macchine ArF 20-30% più economiche rispetto ad ASML, mantenendo comunque margini accettabili.
Ohmura lo ha detto esplicitamente: “Abbiamo un vantaggio nel costo di produzione che ASML, con la sua supply chain globale (Zeiss, Cymer, ecc.), fa fatica a replicare”.Nuovi prodotti in arrivo
NSR-S333F (dry ArF): già in produzione/ordini dal 2025, consegne dal secondo semestre 2026. Offre overlay leader di mercato (<4 nm) e produttività >300 wafer/ora. Pensato per logic, memory e image sensor.
Nuova piattaforma ArF Immersion: lancio previsto nel 2028 (anno fiscale), con nuova lente e nuovo wafer stage. La cosa più importante: sarà compatibile con l’ecosistema ASML (maschere e processi), per facilitare il mix-and-match nelle fabbriche.
Target di clienti
Nikon sta negoziando con diversi grandi produttori di chip negli USA e in Asia (non solo Intel, che storicamente rappresentava ~80% delle sue vendite ArF).
Ohmura ha dichiarato che alcune trattative sono “vicino all’ordine di acquisto”.
Valutazione realistica delle probabilità di successoPunti a favore di Nikon:
Prezzo aggressivo + buona qualità ottica storica.
Mercato ArF ancora molto rilevante (layer non-critical, 3D NAND, image sensor, mature nodes).
Desiderio di molti clienti di avere una second source per negoziare meglio con ASML (soprattutto in un periodo di forte domanda AI).
Punti critici e rischi (analisi degli esperti):
Compatibilità mix-and-match: storicamente è un grosso problema. Anche se la nuova piattaforma 2028 sarà migliorata, i clienti temono complicazioni di overlay tra macchine Nikon e ASML.
Ecosistema e supporto: ASML ha un vantaggio enorme in software, processi qualificati e supporto globale.
Volume di mercato: ASML domina con oltre l’80-90% del mercato ArF immersion. Nikon deve riconquistare fiducia dopo anni di presenza marginale.
Prezzo da solo potrebbe non bastare per i clienti più avanzati.
Implicazioni di mercato
Per ASML: pressione sui prezzi e possibile perdita di quote marginali su layer meno critici. Tuttavia, ASML resta dominante su EUV e sui nodi più avanzati.
Per i clienti (TSMC, Samsung, Intel, ecc.): maggiore potere negoziale e potenziale riduzione costi.
Per Nikon: questa è probabilmente l’ultima grande occasione per restare rilevante nella litografia. Se fallisce, la divisione potrebbe essere ulteriormente ridimensionata.
In sintesi: è un cambio di strategia coraggioso e ben motivato (prezzo + compatibilità), guidato da un CEO tecnico. Le probabilità di successo sono moderate: Nikon può realisticamente diventare una seconda fonte credibile su ArF (soprattutto dry e certi layer immersion), ma è difficile che torni ai livelli di quota di mercato di 15-20 anni fa.
Ma al di là delle speranze del nuovo management, Nikon è troppo piccola per avere successo in un campo che richiede miliardi di dollari in ricerca, sviluppo, produzione e promozione.
I competitor sono consolidati e di dimensioni enormi. La tecnologia Nikon è matura e alla portata anche dei paesi emergenti.
E i cinesi non stanno a guardare ma stanno investendo massicciamente avendo non Nikon ma ASML, come modello.
In sintesi e al di là delle considerazioni tecniche, ritengo sarà l'ennesimo fallimento di strategia Nikon. Come ne abbiamo visti tanti negli ultimi 20 anni.
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